清华大学微电子所高纯水设备站工程实例

1. 工程概况 

清华大学微电子所高纯水站产水用于超大规模型集成电路（VLSI）清洗工序，水处理 工艺采用了RO和EDI联合处理工艺，是目前流行环保型新工艺，由北京化工大学 设计。 2.设计原始资料 

1. 工艺流程及主要设备
2. 预处理系统 

包括水箱、水泵、絮凝剂加药计量泵、管道混合器、多介质过滤器及反冲洗泵等设备 水箱V＝15m3/h, H＝539kPa， 2台.

絮凝剂投加装置包括药箱、隔膜加药泵(电磁隔膜泵)，PSC投加量为10mg/La.

管道混合器可使原水与絮凝剂快速充分混合生成絮状物。 

多介质过滤器，流量为17.6m3/h,滤速为8m/h,2台((1用1备)，除去悬浮物和胶体。

反冲洗泵为立式多级泵，每次反冲洗10min

5um微滤装置用于保证反渗透的进水SDI达到其规定值，即SDI< 4

1. 反渗透系统 

包括高压泵、反渗透组件、清水系统及中间水箱等。 

高压泵为反渗透运行提供所需的进 水压力，Q=18m3/h,H=1 .2MPa，2台。 

反渗透系统采用一级2段脱盐，1段反渗透压力容器按2:1排列，2段反渗透压力容器 按1:l排列，共5个压力容器，1段产水量为13. 2m3 /h，回收率为75环，2段产水量为 11. 2m3 /h，回收率为8500。反渗透组件选用美国海德能公司主产的芳香族聚酞胺膜ESPA3 型膜组件，它是超低压节能型复合膜，其外径/长度=F201. 9mm/1016mm，有效膜面积为 37. 16m2，脱盐率98%，操作压力1. 05MPa。反渗诱主要去除水中溶解盐类，同时去除大分子有机物及前段剩余的小微粒等。 

为了确保反渗透系统的正常运行，在反渗透前设UV杀菌器，UV杀菌器的处理量为17.6M3 /h，波长为254m，强度为30000uW s/ cm2，杀菌率为99%。并设阻垢剂投加系统，阻垢剂采用Flocon260型，投加量为2.4mg/L，或PTPO100型.投加量为1mg/L。为 去除CO2，在两段反渗透之间投加NaOH，调节一段反渗透出水pH值为7.83, NaOH设 计投加量为4. 5mg/L。反渗透产水存人中间水箱。 

乏渗透系统还设有清洗系统，包括水箱、清洗泵、5um过滤器等，同时也可用于对电 去离子装置进行清洗。  

两段反渗透出水水质为:电导率<uS/cm, SiO2<500ug/L, TOC<50tcg/La 

1. 电去离子和脱氧膜系统 

它包括中间泵、电去离子装置、脱氧膜组件及真空泵等 中间泵为电去离子和脱氧膜装 蒙提供动力升压，采用立式多级泵2台((1用1备)，Q为112m3/L, H为490kPa

选用流量为11. 46m3 /h的电去离子组件，其产水量为10. 7m’ /h,回收率为95%电去 

离子为进水组件。电去离子产水水质为:电阻率>1. 75M欧cm, SiO2 <20ug/L，系统设有一台脱氧膜组件，产水量为10. 7rn3 /h，包括6根脱氧膜组件，4X28-X4型，分两组，每 三段串联，除氧率为99. 58%，出水含氧量为30ug/L.以下。脱氧膜配有一台2BV5型液环 式真空泵，真空值为6. 65kPa，抽真六体和汽且为120m3 /h- 

(4>循环后处理系统 

包括高纯水箱、高纯水泵、去除TOC的185nm UV装置、高纯水设备清混床、超滤设备、 回水UV杀菌器、回水背压阀等。 

高纯水泵系立式多级泵，Q为13.8M3/h, H为735kPa, 2台((1用1备)，采用变频供水，压力0.25MPa

185nm UV杀菌器处理水量为13. 8m3 /h，照射强度C80000uw s/m2，出水TOC<10ug/L

高纯水设备精混床分两组，每组3台串联，共6台，单台产水量为5m3 /h，设计流速为 40m/h，出水电阻率>18M欧 cm.

终端采用中空纤维式NTU－3306－K6R型超滤装置1台， 大产水量为15 M3 ，切割分子量6000

回水UV杀菌装置，处理水量3m3/h ，照射强度上<30000uW s/cm2,  使用寿命8750h. 杀菌率>99%。纯水箱用氮密封以防再污染。 

回水背压阀可保证用户用水点的水压稳定。 

终出水水质:TOC<2ug/L，电阻率>18M欧 cm，溶解氧<4ug/L